标签： High NA EUV光刻机
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英特尔代工完成首台二代High NA EUV光刻机验收
快速阅读: 据英特尔代工公司消息，其已于12月15日完成首台High NA EUV光刻机EXE:5200B的验收测试，该设备聚焦量产应用，晶圆吞吐量达每小时175片，套刻精度0.7纳米；同日，公司还在IEDM会议上联合imec展示了两项先进 […]
发布时间：2025-12-16 14:27 来源：szf
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ASML CEO：High NA EUV光刻机2027年量产
快速阅读: 据彭博社报道，ASML首席执行官富凯表示，High NA EUV光刻机将于2027至2028年投入量产，英特尔正积极测试该设备，其Intel 14A节点计划于2027年推出，公司同时已启动Hyper NA EUV技术研发，以布局 […]
发布时间：2025-12-15 13:05 来源：szf
