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清华研发出理想EUV光刻胶材料
快速阅读: 据相关媒体报道,清华大学许华平团队开发出基于聚碲氧烷的新型EUV光刻胶,解决了传统材料结构复杂、易产生缺陷等问题,为半导体技术发展提供新方向。 据清华大学报道,7月16日,北京,清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻 […]
发布时间:2025-07-26 16:16 来源:szf -
清华研发成功理想EUV光刻胶材料
快速阅读: 据相关媒体报道,清华大学许华平团队研发出新型聚碲氧烷光刻胶,提升EUV光刻效率,解决吸收、灵敏度与均一性难题,助力半导体技术发展。 据清华大学报道,7月16日,清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻材料上取得重要进展 […]
发布时间:2025-07-26 09:58 来源:szf