快速阅读: 12月9日消息，日本大日本印刷公司成功开发线宽10纳米的NIL图案化模板，可支持1.4纳米芯片制造，能耗仅为传统光刻十分之一，计划2027年量产。 日本大日本印刷公司（DNP）今日宣布成功开发出线宽仅10纳米的纳米压印光刻（NI […]
