快速阅读: 据《技术点》最新报道，研究人员开发出一种氢氟酸等离子体技术，将三维闪存芯片制造过程中的蚀刻速率提高了一倍。该技术使用低温氢氟酸等离子体进行蚀刻，有望提高手机、相机和计算机的数据存储密度。尽管面临一些挑战，这一新技术可能克服重要制 […]
