标签: 光刻胶
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北大团队首创技术“拍清”芯片制造核心难题,光刻胶关键步骤微观行为首度揭秘
快速阅读: 北京大学团队通过冷冻电子断层扫描技术,首次揭示了光刻胶在显影液中的微观结构与行为,解决了7nm及更先进制程芯片良率的关键问题,提出有效解决方案,显著减少缺陷,成果发表于《自然・通讯》。 IT之家 10 月 24 日消息,在芯片制 […]
发布时间:2025-10-25 01:16 来源:szf -
清华研发出理想EUV光刻胶材料
快速阅读: 据相关媒体报道,清华大学许华平团队开发出基于聚碲氧烷的新型EUV光刻胶,解决了传统材料结构复杂、易产生缺陷等问题,为半导体技术发展提供新方向。 据清华大学报道,7月16日,北京,清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻 […]
发布时间:2025-07-26 16:16 来源:szf -
清华研发成功理想EUV光刻胶材料
快速阅读: 据相关媒体报道,清华大学许华平团队研发出新型聚碲氧烷光刻胶,提升EUV光刻效率,解决吸收、灵敏度与均一性难题,助力半导体技术发展。 据清华大学报道,7月16日,清华大学化学系许华平教授团队在极紫外(EUV)光刻材料上取得重要进展 […]
发布时间:2025-07-26 09:58 来源:szf