SK 海力士加速引进 ASML EUV 光刻机，两年内数量翻倍

快速阅读: SK海力士计划未来两年新增20台ASML EUV光刻系统，使其EUV设备数量翻番，以扩大先进DRAM内存生产，应对AI发展对高性能存储的需求。

IT之家9月24日消息，韩媒etnews当地时间今日报道，SK海力士计划在未来两年内新增约20台ASML的EUV光刻系统。考虑到SK海力士目前已有约20台用于研发和生产的EUV设备，这意味着这家存储巨头在未来两年内将使此类设备的数量翻番。

在SK海力士的两大业务领域中，EUV光刻工艺已在2021年随1a纳米DRAM的商业化得以应用，其应用规模也随着内存技术的进步而稳步增长。鉴于AI发展对高性能企业级存储特别是HBM需求的增加，SK海力士需增加更多EUV设备以扩大先进DRAM内存的生产能力。

除了目前广泛使用的Low-NA EUV光刻机，SK海力士本月早些时候还首次在存储器行业引入了一台量产型High-NA EUV光刻机，即ASML的TWINSCAN EXE:5200B，该设备已部署在韩国利川的M16生产基地中。

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