佳能时隔 21 年开设新光刻机工厂

快速阅读: 7月30日，佳能在日本栃木县宇都宫市开设新光刻设备工厂，总投资约500亿日元，聚焦i线、KrF光刻机及NIL纳米压印系统，预计明年产能翻倍。

IT之家 8 月 5 日消息,综合《日本经济新闻》《日刊工业新闻》两家日媒报道,佳能在当地时间 7 月 30 日为一家位于栃木县宇都宫市的半导体光刻设备工厂举行开业仪式,这也是 佳能时隔 21 年开设的首家新光刻机厂 。

佳能宇都宫工厂总建筑面积为 67518 平方米,总投资额约 500 亿日元(IT之家注:现汇率约合 24.37 亿元人民币),投产后佳能的 光刻设备产能将相较 2021 年翻倍 。该工厂将于今年 9 月启动最初生产,明后年补充镜头加工制造能力。

▲ 佳能 KrF 光刻机 佳能宇都宫工厂不制造 EUV、ArF (i) 等较为先进的光刻设备,而 是聚焦 i 线、KrF 等成熟光源平台 。AI 兴起带来的后端先进封装需求日益攀升,而这正是传统光刻机的用武之地。此外,宇都宫工厂也将制造 NIL 纳米压印图案化系统 。

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