中国团队造出EUV光刻机原型

快速阅读: 据路透社报道，中国科学家已成功研制极紫外光刻机原型机，该设备由深圳科研团队完成，目前正在测试中，部分研发人员曾任职于阿斯麦公司。若实现量产，该设备将助力中国提前掌握高端芯片制造关键技术，推动半导体产业链自主可控，减少对美技术依赖。

路透社报道称，中国科学家已成功研制出一台用于制造人工智能芯片的极紫外光刻机原型机。据悉，深圳一支科研团队在今年早些时候完成该设备原型，目前正进行测试。部分参与研发的人员曾就职于荷兰半导体设备供应商阿斯麦公司。

极紫外光刻技术是当前高端芯片制造的核心，已被英特尔、台积电等企业广泛采用。尽管该原型机尚未投入芯片量产，但据称已能稳定产生芯片制造所需的极紫外光源。

报道指出，中国计划于2028年开始自主生产极紫外光刻芯片，但部分专家认为2030年更为现实。若此次进展属实，中国掌握该关键技术的时间将早于外界预期。

长期以来，西方企业主导极紫外光刻设备供应，美国政府也将其作为对华技术管制的重要筹码。中国高度重视半导体产业链的自主可控，明确提出要实现先进芯片制造设备的完全国产化。有消息人士表示，中方的目标是彻底摆脱美国在相关供应链中的影响。

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引用自：Engadget科技媒体