ASML CEO：High NA EUV光刻机2027年量产

快速阅读: 据彭博社报道，ASML首席执行官富凯表示，High NA EUV光刻机将于2027至2028年投入量产，英特尔正积极测试该设备，其Intel 14A节点计划于2027年推出，公司同时已启动Hyper NA EUV技术研发，以布局2030年代应用。

ASML首席执行官克里斯托夫·富凯近日在公司总部接受彭博社专访时表示，High NA EUV光刻机预计将于2027至2028年正式投入先进制程的大规模量产。

目前，英特尔代工在导入新一代图案化技术方面最为积极，其支持High NA EUV的Intel 14A节点计划于2027年推出。富凯指出，该设备正由英特尔等客户进行测试，初步结果显示新设备在成像与分辨率方面表现良好。他强调，ASML在2026年的重点任务之一是与客户协作，进一步减少设备停机时间，提升运行稳定性。

此外，富凯透露，ASML对未来10至15年的技术路线已有初步规划。公司已启动下一代Hyper NA EUV光刻技术的研究工作，旨在为2030年代的量产应用奠定基础。这一布局体现了该企业在极紫外光刻领域持续深化技术储备的战略方向。

截至当前，High NA EUV仍处于客户验证阶段，其量产进度将取决于设备性能优化与客户工艺整合的协同进展。

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