璞璘交付中国首台半导体级步进纳米压印光刻机，支持＜10nm 线宽

快速阅读: 8月1日，璞璘科技向国内特色工艺客户交付中国首台半导体级步进式纳米压印光刻系统PL-SR，攻克喷墨涂胶工艺瓶颈，实现纳米级压印膜厚，适用于存储芯片、硅基微显示器、硅光及先进封装等芯片研发。

IT之家 8 月 5 日消息,璞璘科技 PRINANO 今日宣布其在 8 月 1 日成功向一家国内特色工艺客户交付其自主研发的 中国首台半导体级步进式纳米压印光刻 (NIL) 系统 PL-SR。

璞璘在 PL-SR 系列设备上成功攻克喷墨涂胶工艺多项技术瓶颈,实现了纳米级的压印膜厚,达到了平均残余层<10nm、残余层变化<2nm、压印结构深宽比>7:1 的技术指标, 可对应线宽<10nm 的 NIL 工艺 。

璞璘科技表示其 PL-SR 系列喷墨步进式纳米压印设备目前已经 初步完成存储芯片、硅基 (oS) 微显示器、硅光 (SiPh) 及先进封装 (AVP) 等芯片研发验证 ;其最小可实现 20mm×20mm 压印模板均匀拼接,最终可实现 12 英寸晶圆级超大模板。

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